| 钛基合金离子注入表面的俄歇能谱分析 |
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| 引用本文： | 陈伟荣. 钛基合金离子注入表面的俄歇能谱分析[J]. 中国有色金属学报, 1997, 7(1): 147-150 |
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| 作者姓名： | 陈伟荣 |
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| 作者单位： | 大连大学机械系 |
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| 摘 要： | 选用４种不同的Ｎ＋注入剂量，即３×１０１７、６×１０１７、９×１０１７和２×１０１８ｃｍ－２，对Ｔｉ６Ａｌ４Ｖ合金进行离子注氮，使其表面形成一层改性层。通过俄歇电子能谱，分析了在钛基合金上注入不同剂量的氮离子后，其表面原子的分布情况。结果表明：最大浓度时的深度ＲＰ和最大相对浓度Ｃｍａｘ并不随注入剂量的增加而无限增大，注入剂量超过９×１０１７ｃｍ－２后，最大浓度时的深度ＲＰ将向试样表面移动；注入剂量超过６×１０１７ｃｍ－２后，最大相对浓度Ｃｍａｘ将保持平稳状态。
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| 关 键 词： | 离子注入 钛基合金 俄歇电子能谱 |
AES ANALYSES OF Ti BASED ALLOY SURFACE BY ION IMPLANTATION |
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| Chen Weirong. AES ANALYSES OF Ti BASED ALLOY SURFACE BY ION IMPLANTATION[J]. The Chinese Journal of Nonferrous Metals, 1997, 7(1): 147-150 |
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| Authors: | Chen Weirong |
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| Affiliation: | Chen Weirong Department of Mechanical Engineering Dalian University,Dalian 116622 |
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| Keywords: | ion implantation Ti based alloy Auger Electron Spectrum |
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