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离子束研磨的高探测率热电探测器
引用本文:宗兰.离子束研磨的高探测率热电探测器[J].激光与红外,1977(2).
作者姓名:宗兰
摘    要:用离子束研磨工艺制备了薄达4微米的可自身支持的热电材料片。用这些极薄的片子制备了1毫米~2的钽酸锂探测器,其归一化探测率D~*经测量为8.5×10~8厘米。赫~(1/2)。瓦~(-1)(30赫)。用这种工艺有可能做出的探测器D~*大大超过10~9厘米·赫~(1/2)·瓦~(-1)。此外,离子束磨片还具有清洁、表面无损伤的优点,且可获得几何结构复杂的探测器片子。

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