| 电化学选择性刻蚀Cu/Ni牺牲层技术的研究 |
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| 引用本文： | 李永海,丁桂甫,张永华,曹莹.电化学选择性刻蚀Cu/Ni牺牲层技术的研究[J].传感器与微系统,2005,24(4):86-88. |
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| 作者姓名： | 李永海 丁桂甫 张永华 曹莹 |
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| 作者单位： | 上海交通大学,微纳米技术研究院,上海,200030 |
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| 基金项目： | 中国科学院资助项目
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国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 牺牲层腐蚀技术结合MEMS技术是制作三维可动微机构的一个重要加工手段。采用电位控制的电化学释放牺牲层技术,对2种不同刻蚀液下的Cu/Ni叠层结构分别进行了电化学腐蚀,并测量了其伏安特性,结果表明:电位控制的电化学腐蚀能很好地进行有选择性刻蚀Cu/Ni牺牲层。
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| 关 键 词： | 电化学腐蚀 选择性刻蚀 牺牲层技术 电位控制 |
| 文章编号： | 1000-9787(2005)04-0086-03 |
| 修稿时间： | 2004年10月20日 |
Researches on selective electrochemical-etching for Cu/Ni sacrificial layers |
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| LI Yong-hai,DING Gui-fu,ZHANG Yong-hua,CAO Ying.Researches on selective electrochemical-etching for Cu/Ni sacrificial layers[J].Transducer and Microsystem Technology,2005,24(4):86-88. |
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| Authors: | LI Yong-hai DING Gui-fu ZHANG Yong-hua CAO Ying |
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| Abstract: | Wet chemical etching of sacrificial layers plays an important part in fabricating movable tree-dimensional micromachines by combination with MEMS technologies.The Cu/Ni laminated structure is etched by electrochemical etching in two varied etching solutions,and its I-V charactistic is measured.The results indicate that the electrochemical etching by potential control can etch Cu/Ni sacrificial layers with selection. |
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| Keywords: | electrochemical-etching selective etching technology of sacrificial layer potential control |
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