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| 铝靶脉冲反应溅射沉积氧化铝薄膜中的迟滞回线的研究 | |
| 引用本文： | 茅昕辉,刘云峰.铝靶脉冲反应溅射沉积氧化铝薄膜中的迟滞回线的研究[J].真空科学与技术,2000,20(2):88-91. |
| 作者姓名： | 茅昕辉 刘云峰 |
| 作者单位： | 东南大学薄膜研究所 |
| 摘 要： | 采用脉冲磁控反应溅射工艺进行氧化铝薄膜的沉积实验，对该工艺过程中溅射电压和沉积速率与氧流量的“迟滞回线”现象进行了研究。通过给出靶面刻蚀区氧化层厚度与氧分压之间的关系，解释了薄膜沉积速率变化的原因。 |
| 关 键 词： | 迟滞回线 反应溅射 脉冲溅射 氧化铝薄膜 |
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