| 中国硅晶体专利现状分析 |
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| 引用本文： | 王晓燕,童晓晨,祝鹏,佟林松,于霞,吴静,张金毅. 中国硅晶体专利现状分析[J]. 材料导报, 2013, 27(1): 121-124 |
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| 作者姓名： | 王晓燕 童晓晨 祝鹏 佟林松 于霞 吴静 张金毅 |
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| 作者单位： | 国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心,北京,100081 |
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| 摘 要： | 采用国家知识产权局的专利检索与服务系统及中国专利检索系统文摘数据库,并以中国专利文献检索系统为补充,采集在我国申请的硅晶体专利文献。对专利类型、申请量年度分布、地域分布、重点技术领域分布、主要申请人、PCT专利申请以及专利审批结果等情况进行统计分析,以期揭示我国硅晶体专利申请的整体发展趋势。
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| 关 键 词： | 硅晶体 专利 中国专利检索系统文摘数据库 分析 |
Analysis of Current Situation of Patents About Silicon in China |
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| WANG Xiaoyan,TONG Xiaochen,ZHU Peng,TONG Linsong,YU Xi,WU Jing,ZHANG Jinyi. Analysis of Current Situation of Patents About Silicon in China[J]. Materials Review, 2013, 27(1): 121-124 |
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| Authors: | WANG Xiaoyan TONG Xiaochen ZHU Peng TONG Linsong YU Xi WU Jing ZHANG Jinyi |
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| Affiliation: | (Patent Examination Cooperation Center of the Patent Office,Beijing 100081) |
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