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| 磁控溅射法制备YBa2Cu3O7—x双面超导薄膜 | |
| 引用本文： | 王小平,冯稷.磁控溅射法制备YBa2Cu3O7—x双面超导薄膜[J].稀有金属,2000,24(6):470-473. |
| 作者姓名： | 王小平 冯稷 |
| 作者单位： | 北京有色金属研究总院,北京 |
| 摘 要： | 采用在直径中这柱状阴极磁控溅射装置和筒形加热器制备了高质量ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－ｘ双面超导薄膜。使用衬底为（００１）ＬａＡｌＯ３和（００１）ＹＳＺ。双面超导薄膜零电阻温度ＴＧ＝８９～９１Ｋ，临界电流密度ＪＣ≥１０＾６Ａ／ｃｍ＾２（７７Ｋ，零场下），微波表面电阻ＲＳ〈１ｍΩ（７７Ｋ，１０ＧＨｚ）。对不同氧氩比下制备的双面膜进行了性能的比较。当Ｏ２：Ａｒ＝１：２．５，衬底温度在８００℃时，制备出了高质量 |
| 关 键 词： | 磁控溅射 双面超导薄膜 YBa2Cu3O7－x |
| 修稿时间： | 2000-07-26 |
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