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| IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究 | |
| 作者姓名： | 马万里 赵建明 吴纬国 |
| 作者单位： | 电子科技大学微电子与固体电子学院 |
| 摘 要： | 本文主要针对光刻对准特性,从单项工艺和工艺集成的角度.分析了影响光刻对准的各个主要因素.主要包括对准标记、工艺层、隔离技术等,提出了一些改善光刻对准效果的方法。 |
| 关 键 词： | 光刻对准 工艺层 集成电路 光刻工艺 隔离技术 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |
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