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| Bi代DyGaIG多层磁光薄膜的优化设计 | |
| 引用本文： | 陈伟元,钟智勇.Bi代DyGaIG多层磁光薄膜的优化设计[J].电子科技大学学报（自然科学版）,1996,25(1):36-40. |
| 作者姓名： | 陈伟元 钟智勇 |
| 摘 要： | Ｂｉ代ＤｙＧａＩＧ材料是新一代磁光存贮介质。文中用导纳矩阵法计算了多层结构的磁光记录薄膜的光学特性，分析了记录层厚度和反射层厚度对记录性能的影响。从磁光记录过程的光和热效应相结合的角度提出了一个新的优化目标函数，并以此完成了Ｂｉ代ＤｙＧａＩＧ／Ａｌ／Ｇｌａｓｓ多层结构磁光盘的优化设计。 |
| 关 键 词： | 磁光记录 记录介质 薄膜 优化设计 |
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