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具有大半金属能隙的V掺杂LiZnP新型稀磁半导体的磁电性质
作者姓名:贾倩  杜颖妍  杜成旭  陈婷  刘焦  于越  张恒源  刘明  毋志民
作者单位:重庆师范大学 物理与电子工程学院 光电功能材料重庆市重点实验室,重庆,401331
基金项目:重庆师范大学教学名师培育计划资助项目;重庆高校创新团队计划资助项目;国家大学生创新创业训练计划资助项目
摘    要:采用基于密度泛函理论的第一性原理平面波超软赝势法,对新型稀磁半导体Li_(1±y)(Zn_(1-x)V_x)P(x=0,0.0625;y=0,0.0625)体系进行几何结构优化,计算并分析了各体系的电子结构,形成能,半金属性,磁性及居里温度。结果表明,新型稀磁半导体LiZnP可通过掺入V和改变Li的化学计量数来实现自旋和电荷注入机制的分离。单掺V引入了自旋极化杂质带,表现出强的半金属性,sp-d杂化导致体系产生2.92μ_B的净磁矩。体系的性质还受Li的化学计量数的影响,Li空位时,半金属性和磁性有所减弱,但居里温度最高;Li填隙时,杂化作用增强,形成能最低,导电能力最强,磁性最大。

关 键 词:V掺LiZnP  电子结构  半金属性  磁性
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