| 衬底温度对沉积的NiTi薄膜晶化行为的影响 |
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| 引用本文： | 李永华,纪红,孟繁玲,邱利霞,郑伟涛,王煜明. 衬底温度对沉积的NiTi薄膜晶化行为的影响[J]. 材料科学与工艺, 2003, 11(3): 251-253 |
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| 作者姓名： | 李永华 纪红 孟繁玲 邱利霞 郑伟涛 王煜明 |
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| 作者单位： | 1. 吉林大学,麦克德尔米德实验室材料系,吉林,长春,130023
2. 吉林大学物理学院,吉林,长春,130023 |
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| 基金项目： | 吉林省科技厅基金资助项目(20020611)，教育部高等学校博士点基金资助项目. |
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| 摘 要： | 将采用直流磁控溅射方法制备的NiTi薄膜沉积在热的衬底上，应用X射线散射和小角X射线散射技术研究了NiTi合金薄膜中生成的晶化粒子的界面特征和晶粒大小．结果表明：衬底加热可降低薄膜的晶化温度，衬底温度在350℃以上，溅射的NiTi薄膜已部分晶化；衬底温度在350、370℃和420℃溅射的NiTi薄膜，对应的晶化粒子的半径分别是2．40、2．59、2．81nm；薄膜中的晶化粒子以形核长大的方式进行，结晶粒子与基底之间有清晰的界面。
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| 关 键 词： | 衬底 温度 沉积 NiTi合金薄膜 晶化粒子 小角X射线散射 |
| 文章编号： | 1005-0299(2003)03-0251-03 |
| 修稿时间： | 2002-04-10 |
Effect of substrate temperature on crystallization behavior of NiTi thin films |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | NiTi thin films crystalline particles small angle X-ray scattering |
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