| 射频磁控溅射制备(Pb,La)TiO3薄膜的结晶性能与铁电畴初步研究 |
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| 引用本文： | 吴家刚,刘洪,蒲朝晖,肖定全,朱基亮,朱建国.射频磁控溅射制备(Pb,La)TiO3薄膜的结晶性能与铁电畴初步研究[J].真空科学与技术学报,2006,26(2):102-105. |
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| 作者姓名： | 吴家刚 刘洪 蒲朝晖 肖定全 朱基亮 朱建国 |
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| 作者单位： | 四川大学材料科学系,成都,610064 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划);中国科学院资助项目 |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射技术在Pt/Ti/SiO2/Si衬底制备了(Pb,La)TiO3(简记为PLT)铁电薄膜.利用XRD对PLT薄膜的结晶性能进行了研究.实验结果表明,在一定的制备工艺条件下,可以制备出完全钙钛相的PLT铁电薄膜.PLT铁电薄膜的结晶性能与溅射的工作气压、氧氩比、退火温度等关系密切;PFM表明PLT薄膜的电畴具有180°结构.
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| 关 键 词： | 铁电薄膜 电畴 |
| 文章编号： | 1672-7126（2006）02-0102-04 |
| 收稿时间： | 2005-04-22 |
| 修稿时间： | 2005年4月22日 |
Preliminary Study of Ferroelectric Domains of (Pb,La)TiO3 Films Grown by RF Magnetron Sputtering |
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| Wu Jiagang,Liu Hong,Pu Zhaohui,Xiao Dingquan,Zhu Jiliang,Zhu Jianguo.Preliminary Study of Ferroelectric Domains of (Pb,La)TiO3 Films Grown by RF Magnetron Sputtering[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2006,26(2):102-105. |
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| Authors: | Wu Jiagang Liu Hong Pu Zhaohui Xiao Dingquan Zhu Jiliang Zhu Jianguo |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | PLT PFM |
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