| 快速光亮化学镀镍工艺 |
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| 引用本文： | 何向辉,刘彦哲,顾耀前,郑振.快速光亮化学镀镍工艺[J].电镀与环保,2006,26(2):24-26. |
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| 作者姓名： | 何向辉 刘彦哲 顾耀前 郑振 |
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| 作者单位： | 上海应用技术学院,化学工程系,上海,200235;上海金杨金属表面处理有限公司,上海,200137 |
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| 摘 要： | 弱酸性化学镀镍溶液体系采用复合配位剂以及一种添加剂,在80～90℃范围内可获得光亮镍磷合金镀层,沉积速率可达20μm/h.研究了温度、pH值及镀液成份对化学镀镍层沉积速率的影响,并讨论了镀液的稳定性及添加剂的作用.
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| 关 键 词： | 化学镀镍磷合金 快速 光亮 |
| 文章编号： | 1000-4742（2006）02-0024-03 |
| 收稿时间： | 2005-09-30 |
| 修稿时间： | 2005年9月30日 |
High Speed Bright Electroless Nickel Plating |
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| HE Xiang-hui,LIU Yan-zhe,GU Yao-qian,ZHENG Zhen.High Speed Bright Electroless Nickel Plating[J].Electroplating & Pollution Control,2006,26(2):24-26. |
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| Authors: | HE Xiang-hui LIU Yan-zhe GU Yao-qian ZHENG Zhen |
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| Affiliation: | 1. Department of Chemical Engineering, Shanghai Institute of Technology, Shanghai 200235; 2. Shanghai Jinyang Metal Surface Treatment Co. ,Ltd., Shanghai 200137 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | electroless Ni-P alloy plating high speed bright |
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