摘 要: | 利用两步合成法将有机硼(OBC)修饰于纳米二氧化硅表面,制备了一种纳米硼交联剂(NBC)。傅里叶红外光谱证明OBC通过与偶联剂3-氨丙基三乙氧基硅烷反应生成B-N键修饰于JT-1之上。TEM测试显示NBC颗粒粒径为20~50nm,且随着JT-1与OBC质量比的减小,纳米硼交联剂的粒径逐渐增大,分散性逐渐变差。NBC交联的HPG冻胶可在pH=7条件下拥有良好的耐温耐剪切性及破胶返排性能。在100℃下剪切1h黏度仍能保持在100mPa·s以上。随着JT-1与OBC质量比的减小,NBC交联效率降低,最佳交联比增加,交联冻胶耐温耐剪切性及粘弹携砂性变差。
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