| 亚微米工艺设计规则的探讨及其意义 |
| |
| 引用本文： | 石一心,陈育人.亚微米工艺设计规则的探讨及其意义[J].微电子技术,2001,29(2):28-32. |
| |
| 作者姓名： | 石一心 陈育人 |
| |
| 作者单位： | 无锡华晶矽科微电子有限公司, |
| |
| 摘 要： | 本文地亚微米工艺设计规则进行探讨，旨在促进设计公司与Fab厂家之间信息反馈，共同努力并顺利进入亚微米和深亚微米领域。
|
| 关 键 词： | 亚微米工艺 设计规则 集成电路 微电子 |
| 文章编号： | 1008-0147(2001)02-28-05 |
| 修稿时间： | 2000年8月18日 |
Discussion on Design Rule of Submicron Technology |
| |
| SHI Yi-xin,CHEN Yu-ren.Discussion on Design Rule of Submicron Technology[J].Microelectronic Technology,2001,29(2):28-32. |
| |
| Authors: | SHI Yi-xin CHEN Yu-ren |
| |
| Abstract: | The design rule of submicron technology is discussed in the paper,the prupose is to promote the liaison of information between design centers and Fabs,and to help them to cooperate well and to enter the sphere of submicron or deep submicron technology successfully. |
| |
| Keywords: | Submicron technology Design rule Yield Photolithography Etch |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
