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分类号
杂志ISSN号
黄铜H_2SO_4-HNO_3系化学抛光机理研究
作者姓名:
韩克平
方景礼
作者单位:
南京大学化学化工学院,南京大学应用化学研究所
摘 要:
用扫描电镜观察了黄铜在H2SO4-HNO3系化学抛光过程中的表面形貌。结果表明,黄铜的化学抛光过程由浸蚀、光亮和过腐蚀三个阶段组成;用光反射率法测定了抛光液基本组分和操作条件对化学抛光过程不同阶段的影响;化学抛光过程中的阳极极化曲线表明“电抛光平原”区域的存在。
关 键 词:
黄铜,化学抛光,机理
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