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浮动电极对屏蔽栅沟槽型MOSFET特性的影响
引用本文:湛涛,冯全源.浮动电极对屏蔽栅沟槽型MOSFET特性的影响[J].微电子学,2023,53(5):917-923.
作者姓名:湛涛  冯全源
作者单位:西南交通大学 微电子研究所, 成都 611756
基金项目:国家自然科学基金重点项目(62090012)
摘    要:提出了在屏蔽栅沟槽型MOSFET(SGT)的沟槽侧壁氧化层中形成浮动电极的结构,通过改善电场分布,优化了特征导通电阻与特征栅漏电容。在传统SGT结构的基础上,仅通过增大外延层掺杂浓度,改变浮动电极的长度和位置以及氧化层厚度,最终得到击穿电压为141.1 V、特征导通电阻为55 mΩ·mm2、特征栅漏电容为4.72 pF·mm-2的浮动电极结构。与相同结构参数的SGT结构相比,在击穿电压不变的条件下,浮动电极结构的特征导通电阻降低了9.3%,Baliga优值提升了13%,特征栅漏电容降低了28.4%。

关 键 词:屏蔽栅  浮动电极  特征导通电阻  特征栅漏电容
收稿时间:2023/2/10 0:00:00

Effect of Floating Electrodes on the Characteristics of Shielded Gate Trench MOSFET
ZHAN Tao,FENG Quanyuan.Effect of Floating Electrodes on the Characteristics of Shielded Gate Trench MOSFET[J].Microelectronics,2023,53(5):917-923.
Authors:ZHAN Tao  FENG Quanyuan
Affiliation:Institute of Microelectronics, Southwest Jiaotong University, Chengdu 611756, P. R. China
Abstract:
Keywords:shielded gate  floating electrode  specific on-resistance  specific gate-drain capacitance
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