| NiTi形状记忆薄膜的溅射制备及晶化热处理工艺 |
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| 引用本文： | 宫峰飞,王业宁,沈惠敏.NiTi形状记忆薄膜的溅射制备及晶化热处理工艺[J].材料热处理学报,2001,22(4):40-42. |
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| 作者姓名： | 宫峰飞 王业宁 沈惠敏 |
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| 作者单位： | 1. 华东师范大学物理系,上海,200062;南京大学固体微结构国家重点实验室,江苏南京,210008
2. 南京大学固体微结构国家重点实验室,江苏南京,210008 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助 (编号 59672 0 2 4 )，上海市启明
星基金资助 (编号 98QE1 4 0 2 9) |
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| 摘 要： | 用磁控溅射法制备了NiTi非晶薄膜。薄膜无形状记忆效应。研究了经不同晶化热处理后的形状记忆效应，获得的最佳晶化热处理条件为500－700℃范围内晶化0．5h。
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| 关 键 词： | NiTi 形状记忆薄膜 溅射制备 晶化热处理 |
| 文章编号： | 1009-6264(2001)04-0040-03 |
Preparation and Annealing of Sputtered NiTi Shape Memory Thin Films |
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| GONG Fengfei , SHEN Huimin ,WANG Yening.Preparation and Annealing of Sputtered NiTi Shape Memory Thin Films[J].Transactions of Materials and Heat Treatment,2001,22(4):40-42. |
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| Authors: | GONG Fengfei SHEN Huimin WANG Yening |
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| Affiliation: | GONG Fengfei 1,2 SHEN Huimin 2,WANG Yening 2 |
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| Keywords: | NiTi shape memory thin films magnetron sputtering annealing |
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