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基于响应面的电絮凝除As(Ⅲ)研究
引用本文:胡维,戴友芝,刘凯,杨双.基于响应面的电絮凝除As(Ⅲ)研究[J].水处理技术,2014(1).
作者姓名:胡维  戴友芝  刘凯  杨双
作者单位:湘潭大学环境科学与工程系;重金属污染控制湖南省普通高等学校重点实验室;
基金项目:国家十一五“水体污染控制与治理”科技重大专项增补课题(2010ZX07212-008);湖南省科技厅社会发展科技支撑计划重点项目(2011SK2016);湖南省高校创新平台(重金属污染控制)开放基金项目(11k070)
摘    要:PB法和Central Composite Design(CCD)法对电絮凝除As(Ⅲ)的影响因素进行筛选优化,建立以As(Ⅲ)去除率为目标响应值的模型,研究各因素影响,确定优化反应条件。结果表明,电絮凝除As(Ⅲ)影响显著的因素是:反应时间、电流、溶液初始pH及初始As(Ⅲ)含量;优化反应条件:反应时间9.91 min、电流0.31 A、溶液初始pH为6.94、初始As(Ⅲ)的质量浓度19.89 mg/L,在此条件下,As(Ⅲ)的实测去除率达98.8%,出水As(Ⅲ)的质量浓度为0.24 mg/L,达到GB 8978-1996排放要求。

关 键 词:价砷  电絮凝  响应面法
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