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| 1985年国际应用磁学会议内容简介 | |
| 引用本文： | 胡文忠,张药西.1985年国际应用磁学会议内容简介[J].磁性材料及器件,1986(4). |
| 作者姓名： | 胡文忠 张药西 |
| 作者单位： | 电子工业部九所，北京七九八厂 |
| 摘 要： | 85年国际应用磁学会于4月29日～5月2日在美国明尼苏达州首府圣保罗举行,共发表203篇论文。参加我数1000人左右。从发表的论文数量上看,美国除磁光、磁泡外均处于领先地位。日本发表的论文数是美国的三 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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