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国内首台12英寸单晶圆清洗设备亮相工博会
摘 要:
国内首台适用于65纳米技术节点的12英寸单片晶圆清洗设备Ultra C日前在上海工博会首次亮相,从而填补了国内半导体单片晶圆清洗设备制造的空白。这台清洗设备是由落户上海张江高科技园区的盛美半导体设备(上海)有限公司按照国际一流技术水平设计制造的,其系统框架、核心部件和关键工艺均已申请全球专利保护,具有完全自主知识产权。
关 键 词:
清洗设备
单晶圆
国内
半导体设备
自主知识产权
设备制造
高科技园区
技术节点
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