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| 热丝CVD法金刚石膜生长速度研究 | |
| 引用本文： | 杨巧勤,赵立华.热丝CVD法金刚石膜生长速度研究[J].炭素,1995(2):13-17. |
| 作者姓名： | 杨巧勤 赵立华 |
| 作者单位： | 湖南大学材料测试研究中心 |
| 摘 要： | 本文使用热丝ＣＶＤ法着重研究了基底表面的处理、工作气压、碳化物的含量、基底温度、灯丝温度以及基底与灯丝间距离等对金刚石膜生长速度所产生的影响，并在以上研究的基础上采取措施，使热丝ＣＶＤ法生长金刚石膜的速度提高了４倍。 |
| 关 键 词： | 金刚石膜 热丝CVD法 晶体生长 生长速度 |
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