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磁增强反应离子刻蚀系统中的发射光谱诊断技术
作者姓名:赖国燕 范平
作者单位:[1]深圳市新开达电子公司 [2]深圳大学应用物理系
摘    要:利用发射光谱诊断技术研究了磁增强反应离子刻蚀系统中CF4+O2的辐射谱、谱线成分及强度,分析了谱线强度与射频福射功率、氧气含量的关系,并与没有磁场存在时的情况作了比较。

关 键 词:磁增强 离子刻蚀 发射光谱诊断 半导体器件
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