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| PZT／Si界面氧化反应机理及动力学研究 | |
| 引用本文： | 朱永法,阎培渝.PZT／Si界面氧化反应机理及动力学研究[J].真空科学与技术,1996,16(3):160-165. |
| 作者姓名： | 朱永法 阎培渝 |
| 作者单位： | [1]清华大学化学系 [2]清华大学材料科学与工程系 |
| 摘 要： | 运用俄歇电子能谱深度剖析和线形分析研究了ＰＺＴ／Ｓｉ界面氧化反应的机理和动力学过程，研究结果表明，在ＰＴ／Ｓｉ样品的热处理过程中，环境气氛中的氧可以透过ＰＺＴ薄膜层扩散到ＰＴ／Ｓｉ界面，并与硅基底反庆形成ＳｉＯ２界面层，界面氧化反应由氧在ＰＴ层和ＳｉＯ２层中的扩散过程所控制。 |
| 关 键 词： | 锆钛酸铅 薄膜 界面反应 氧化反应 |
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