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| 硬度合金基体上CVD金刚石薄膜的形态表征 | |
| 作者姓名： | 匡同春 刘正义 |
| 作者单位： | 华南理工大学实验中心，广州有色金属研究院 |
| 摘 要： | 采用ＳＥＭ、Ｒａｍａｎ光谱、ＸＲＤ等测试方法，对直流等离子体射流ＣＶＤ法在硬质合金基体上合成的金刚石膜进行了形貌和结构分析。结果表明，该方法合成的金刚石膜形貌和质量受基体表面上的温度梯度、化学物质（原子氢、碳氢基团等）浓度梯度的影响较大。膜层内存在ＧＰａ数量级的残余压应力，微观应力很小。嵌镶块尺寸为纳米数量级，且随甲烷浓度增高而减小，由此而估算的位错密度统计平均值达１０＾１０ｃｍ＾－２数量级。综合 |
| 关 键 词： | CVD 金刚石膜 薄膜 硬质合金 |
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