| 直流磁控溅射法制备金钆多层膜 |
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| 引用本文： | 许华 何智兵 张继成 吴卫东 唐永建. 直流磁控溅射法制备金钆多层膜[J]. 中国材料科技与设备, 2006, 3(6): 61-62,68 |
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| 作者姓名： | 许华 何智兵 张继成 吴卫东 唐永建 |
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| 作者单位： | 中国工程物理研究院,四川绵阳621900 |
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| 基金项目： | 国家863计划惯性约束聚变项目资助课题 |
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| 摘 要： | 本文介绍了直流磁控溅射方法制备Au／Gd多层膜，探索了多层膜的制备工艺参数，利用X射线衍射表征了多层膜的界面结构及混和膜的晶型结构，原子力显微镜观察了膜的表面形貌和粗糙度。成功地制备了膜层厚度控制精确、界面清晰和表面光洁的Au／Gd多层膜。
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| 关 键 词： | 直流磁控溅射 Au／Gd多层膜 |
The Fabrication of Au/Gd Multilayer Films by the DC Magnetron Sputtering |
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| XU Hua , HE Zhi - bing , ZHANG Ji - cheng , WU Wei - dong , TANG Yong - fian. The Fabrication of Au/Gd Multilayer Films by the DC Magnetron Sputtering[J]. Chinese Materials Science Technology & Equipment, 2006, 3(6): 61-62,68 |
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| Authors: | XU Hua HE Zhi - bing ZHANG Ji - cheng WU Wei - dong TANG Yong - fian |
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| Affiliation: | Laser Fusion Research Center, Chinese Academy of Engineering and Physics, Sichuan, Mianyang, 621900, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | DC magnetron sputtering Au/Gd muhilayer films |
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