| 基于SOI的光子晶体波导的研究 |
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| 引用本文： | 解灵运,张冶金,彭小舟,陈向飞,谢世钟.基于SOI的光子晶体波导的研究[J].半导体光电,2003,24(6):392-395. |
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| 作者姓名： | 解灵运 张冶金 彭小舟 陈向飞 谢世钟 |
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| 作者单位： | 清华大学,电子工程系,北京,100084 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;90104003; |
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| 摘 要： | 给出了基于SOI晶片、带隙中心位于1550nm的光子带隙材料及光子晶体波导器件的设计方法。采用基于超原胞的平面波展开法和基于完美匹配层边界条件的三维时域有限差分法,对二维光子晶体平板的带隙结构及光波传输进行仿真。在大量计算和优化的基础上,设计了适于248nm深紫外曝光和0.18μm离子束刻蚀工艺的光子晶体带隙材料及波导器件,得到了初步的工艺实验结果和样品SEM测试结果。
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| 关 键 词： | 光子晶体 光子带隙 深紫外曝光 SOI 平面波展开法 时域有限差分法 |
| 文章编号： | 1001-5868(2003)06-0392-04 |
| 修稿时间： | 2003年5月23日 |
Study on SOI-based Photonic Crystal Waveguides |
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| XIE Ling-yun,ZHANG Ye-jin,PENG Xiao-zhou,CHEN Xiang-fei,XIE Shi-zhong.Study on SOI-based Photonic Crystal Waveguides[J].Semiconductor Optoelectronics,2003,24(6):392-395. |
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| Authors: | XIE Ling-yun ZHANG Ye-jin PENG Xiao-zhou CHEN Xiang-fei XIE Shi-zhong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | photonic crystal photonic bandgap deep UV lithography SOI PWE FDTD |
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