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| 卡诺公司发表了具有划时代意义的半导体装置 | |
| 引用本文： | 王巧霞.卡诺公司发表了具有划时代意义的半导体装置[J].电子工业专用设备,1979(2). |
| 作者姓名： | 王巧霞 |
| 摘 要： | 卡诺公司是当代世界上首次将波长为200—260nm的远紫外光曝光技术运用于实际中去的。该公司运用远紫外曝光技术,成功地获得了最小线宽0.5mm的超微细图形。发表了能曝光5英寸片子的全自动的分离式半导体图形曝光设备“卡诺PLA——520FA”(接近式直线对准)。它是在已经发表了的“卡诺PLA——500FA”的基础上又发展了一步的新型图形曝光装置。该装置的曝光系统采用了远紫外光。它用激光和微型计算机控制,实现了光掩模和 |
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