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通过Cu/Ti液相扩散反应进行Si3N4/Cu的连接
引用本文:周飞,李志章,罗启富.通过Cu/Ti液相扩散反应进行Si3N4/Cu的连接[J].浙江大学学报(自然科学版 ),2001,35(1):109-112.
作者姓名:周飞  李志章  罗启富
作者单位:[1]浙江大学材料科学与工程学系,浙江杭州310027 [2]江苏理工大学材料科学与工程学院,江苏镇江212013
摘    要:用Ti粉作中间层在1273K直接进行Si3N4/Cu的连接.用四点弯曲方法测定了不同保温时间下的连接强度,并对连接界面进行了SEM、EPMA和XRD分析.结果表明:通过Cu-Ti二元扩散促使液相与氮化硅发生界面反应,形成Si3N4/TiN/Ti5Si3 Ti5Si4/Cu3Ti2(Si)/Cu的梯度层界面.接头弯曲强度随着保温时间的增加,先增后降.微观分析表明:Si。N。与Ti的界面反应以及Cu、Ti、Si的相互扩散决定了接头的力学性能.

关 键 词:Si3N4  Ti5Si3  保温时间  界面反应  连接强度  EPMA  互扩散  液相  XRD分析  氮化硅
文章编号:1008-973X(2001)01-0109-04
修稿时间:1998年2月5日

Joining of Si3N4 and Cu using liquid diffusive reaction of Ti/Cu
ZHOU Fei.Joining of Si3N4 and Cu using liquid diffusive reaction of Ti/Cu[J].Journal of Zhejiang University(Engineering Science),2001,35(1):109-112.
Authors:ZHOU Fei
Abstract:
Keywords:
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