首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

纯位相片光学互连实验研究
引用本文:张静娟 高士平. 纯位相片光学互连实验研究[J]. 光电子.激光, 1992, 3(5): 272-277
作者姓名:张静娟 高士平
作者单位:中国科技大学研究生院(张静娟,许超),中国科学院微电子研究中心(高士平),中国科学院微电子研究中心(平)
摘    要:本文给出一维互连系统中纯位相片计算结果,介绍用反应离子刻蚀制备纯位相片的方法以及用此位相片进行一维互连的实验结果。实验结果与理论计算相符。

关 键 词:光学互连 纯位相片 反应离子刻蚀

Experimente of Optical Interconnection with Phase Masks
Zhang Jingiuan,Xu chao. Experimente of Optical Interconnection with Phase Masks[J]. Journal of Optoelectronics·laser, 1992, 3(5): 272-277
Authors:Zhang Jingiuan  Xu chao
Abstract:The calculation result in one dimensional interconnection system is proposed in this paper. The method of preparing phase masks with ion-etching is introduced. The above masks are applied to one dimensional interconnection experiment. The experimental results are consistent with the theory.
Keywords:optical interconnection  phase-only masks  ion-etching.
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
点击此处可从《光电子.激光》浏览原始摘要信息
点击此处可从《光电子.激光》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号