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碲镉汞材料双面平坦化工艺研究
引用本文:李春领,王春红,秦艳红.碲镉汞材料双面平坦化工艺研究[J].激光与红外,2017,47(8):992-995.
作者姓名:李春领  王春红  秦艳红
作者单位:华北光电技术研究所,北京 100015
基金项目:国防基础科研计划项目(No.JCKY2016210B002)资助
摘    要:通过对30 mm×25 mm尺寸的碲镉汞材料和器件进行双面平坦化工艺,使其平面度达到与Si读出电路互连要小于2 μm的要求,提高了MW1280×1024焦平面器件互连成品率。、

关 键 词:碲镉汞  双面平坦化  平面度  倒装互连

Study on double-surface flattening process of HgCdTe material
LI Chun-ling,WANG Chun-hong,QIN Yan-hong.Study on double-surface flattening process of HgCdTe material[J].Laser & Infrared,2017,47(8):992-995.
Authors:LI Chun-ling  WANG Chun-hong  QIN Yan-hong
Affiliation:North China Research Institute of Electron-Optics,Beijing 100015,China
Abstract:
Keywords:
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