| 反应溅射AlN薄膜的动态特性 |
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| 引用本文： | 佟洪波,柳青,巴德纯. 反应溅射AlN薄膜的动态特性[J]. 真空科学与技术学报, 2009, 29(1) |
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| 作者姓名： | 佟洪波 柳青 巴德纯 |
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| 作者单位： | 1. 辽宁石油化工大学机械工程学院,抚顺,113001
2. 东北大学机械工程与自动化学院,沈阳,110004 |
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| 摘 要： | 反应磁控溅射方法制备AlN薄膜是一种很普遍的方法,但采用该方法制备时,各个参数相互作用使过程复杂化.为了增强对该过程的理解,建立了反应溅射过程的动态模型.应用该模型分析了当氮流量增加或减少时,过程中的各个参数随时间变化的瞬态行为.计算出的溅射参数与实测值相符.模型清楚地表明,过程的初始状态对其动态行为有显著的影响.
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| 关 键 词： | 反应溅射 动态模拟 AlN薄膜 |
Dynamic Behavior of AlN Film Grow by Reactive Magnetron Sputtering |
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| Tong Hongbo,Liu Qing,Ba Dechun. Dynamic Behavior of AlN Film Grow by Reactive Magnetron Sputtering[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2009, 29(1) |
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| Authors: | Tong Hongbo Liu Qing Ba Dechun |
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