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玻璃微流路芯片加工工艺研究
引用本文:吴洋洋,倪俊芳.玻璃微流路芯片加工工艺研究[J].苏州大学学报(工科版),2009,29(1).
作者姓名:吴洋洋  倪俊芳
作者单位:苏州大学机电工程学院,江苏,苏州,215021
摘    要:运用光刻、湿法刻蚀技术,通过掩膜板补偿方法在以Pyrex玻璃为材料的底基上准确刻蚀出深30μm、宽70μm的沟槽,通过热键合工艺使底基与另一同材料的玻璃盖片熔合,成功地制作出微流路芯片.在制作过程中,对湿法刻蚀工艺和热键合工艺的不足进行了改良,提高了芯片制作质量.

关 键 词:微流路芯片  掩膜板  湿法刻蚀  热键合

The Research of Glass Microfluidic Chip Processing Technology
Wu Yangyang,Ni Junfang.The Research of Glass Microfluidic Chip Processing Technology[J].Journal of Suzhou University(Engineering Science Edition),2009,29(1).
Authors:Wu Yangyang  Ni Junfang
Affiliation:School of Mechanical and Electrical;Suzhou University;Suzhou 215021;China
Abstract:
Keywords:microfluidic chip  mask  wet etching  bonding  
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