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| 高损伤阈值CaF2窗口红外宽带增透膜研制 | |
| 引用本文： | 黄伟,张云洞,蔡邦维.高损伤阈值CaF2窗口红外宽带增透膜研制[J].激光与光电子学进展,2001(9):55-55. |
| 作者姓名： | 黄伟 张云洞 蔡邦维 |
| 作者单位： | 1. 四川大学电子信息学院;中国科学院光电技术研究所 2. 中国科学院光电技术研究所, 3. 四川大学电子信息学院, |
| 摘 要： | 详细讨论了高功率DF化学激光器所用高损伤阈值CaF2窗口红外宽带增透膜的镀膜材料选取,多层减反射膜的优化设计与制备技术以及元件性能的测试结果.在分析比较多种镀膜材料性能基础上,选择ZnS/YbF3两种材料的组合,用光控极值法控制膜层厚度,采用电子束沉积技术得到了在3.4～4.2 μm的波长范围内平均透过率大于99%的宽带增透膜,该膜层能承受200kW的激光功率输出,且具有很好的机械特性,膜层附着牢固不脱落.(OH7) |
| 关 键 词： | 损伤阈值 氟化钙 化学激光器 红外 宽带增透膜 |
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