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纳米介孔二氧化硅修饰碳糊电极吸附伏安法测定抗坏血酸
摘    要:采用纳米介孔二氧化硅修饰碳糊电极检测不同浓度的抗坏血酸,实验结果表明,抗坏血酸在0.1~2 μmol/L浓度范围内峰电流与抗坏血酸浓度呈良好的线性关系,线性回归方程为Ip(μA)=1.236+3.207C(μmol/L),相关系数为0.981,检出限为0.02;unol/L.

关 键 词:抗坏血酸  纳米介孔二氧化硅修饰碳糊电极  吸附伏安法

The Determination of Ascorbic Acid by Adsorptive Stripping Voltammetry Using Mesoporous SiO2 Modified Carbon Paste Electrode
Abstract:
Keywords:
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