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| 模板法交流电沉积铜纳米线阵列及其表征 | |
| 引用本文： | 张艳梅,胡勇,黄家强,王国庆,桂烨,王大福,揭晓华,曾鹏.模板法交流电沉积铜纳米线阵列及其表征[J].电镀与涂饰,2014(11). |
| 作者姓名： | 张艳梅 胡勇 黄家强 王国庆 桂烨 王大福 揭晓华 曾鹏 |
| 作者单位： | 广东工业大学材料与能源学院; |
| 基金项目： | 广东省省部产学研结合项目资助(2012B091100370) |
| 摘 要： | 先通过二次阳极氧化法制备多孔阳极氧化铝膜模板,再采用交流电沉积法将Cu金属填入模板的纳米孔洞中得到铜纳米线阵列。分别采用扫描电镜、透射电镜和X射线衍射仪对Cu纳米线阵列的形貌和晶体结构进行表征。结果表明,多孔氧化铝模板的孔洞排布致密、均匀而有序。交流电沉积所得Cu纳米线为单晶结构,直径为60~90 nm,长度为0.5~4.0μm。 |
| 关 键 词： | 铝 阳极氧化 模板 交流电沉积 铜纳米线阵列 微观结构 |
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