日本开发可提高臭氧浓度的半导体清洗装置

日本中部电力和三菱电机公司共同开发出用于半导体和液晶制造厂电子零部件清洗用的超高浓度臭氧发生技术。臭氧是由3个氧原子构成的气体，氧化能力超过氯气，被广泛用于杀菌、脱臭、脱色等领域。臭氧是将两片平板状电极间产生的氧气，经高压处理产生的。为制造高浓度臭氧，电极间的距离需尽量短。利用这次开发的技术，将2片电极加热加压烧结，在不增加成本的基础上可将放电长度缩短至50μm。这样使臭氧浓度比原来（210g／Nm^3）大幅提高，有可能达到世界最高浓度（400g/Nm^3）。通过用臭氧代替在半导体等电子零部件清洗过程中大量使用的硫酸、盐酸等，可降低生产成本。另外，由于使用后被分解成氧气，因此无需使用处理药物，且不会产生有害物质，可以作为环保清洗剂使用。