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沉积温度对ZnO薄膜结构和光学性能的影响
引用本文:王晶,余花娃. 沉积温度对ZnO薄膜结构和光学性能的影响[J]. 陕西科技大学学报, 2007, 25(6): 66-68,72
作者姓名:王晶  余花娃
作者单位:[1]西安工程大学理学院,陕西西安710048 [2]西北大学物理系,陕西西安710069
基金项目:国家自然科学基金;国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:采用RF磁控溅射法,在单晶硅衬底上生长出高质量的(002)晶面取向的ZnO薄膜.利用X射线衍射分析(XRD)、原子力显微镜(AFM)、光栅光谱仪等技术研究了沉积温度对ZnO薄膜的结构、应力状态、表面形貌和发光性能的影响.研究结果表明,在射频功率为100W时所制备的ZnO薄膜当沉积温度为500℃时能获得最佳的c轴取向和最小半高宽,此时ZnO薄膜具有较小的压应力和较好的紫外发光性.

关 键 词:磁控溅射  ZnO薄膜  沉积温度  光致发光
文章编号:1000-5811(2007)06-0066-03
收稿时间:2007-10-10
修稿时间:2007-10-10

INFLUENCE OF SUBSTRATE TEMPERATURE ON THE MICROSTRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES FOR ZnO FILMS
WANG Jing,YU Hua-wa. INFLUENCE OF SUBSTRATE TEMPERATURE ON THE MICROSTRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES FOR ZnO FILMS[J]. Journal of Shaanxi University of Science & Technology(Natural Science Edition), 2007, 25(6): 66-68,72
Authors:WANG Jing  YU Hua-wa
Abstract:
Keywords:magnetron sputtering   ZnO thin films   substrate temperature   photoluminescence
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