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HgCdTe均匀化过程中的除湿法
引用本文:
龚琰民.HgCdTe均匀化过程中的除湿法[J].红外与激光工程,1988(1).
作者姓名:
龚琰民
摘 要:
HgCdTe均匀化过程中,试样对熔融石英安瓿壁的粘附,即“沾润”,可用减慢加热速度消除。目的是降低试样中Cd的活性,以便减慢Cd和硅壁之间的反应速度。
关 键 词:
碲镉汞
晶体生长
加热
石英玻璃
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