金属离子对卤化银乳剂照相性能的影响 |
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作者姓名: | 王作琴 |
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作者单位: | 抚顺六二八厂 |
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摘 要: | 前言为研究金属离子提供的电子陷阱对卤化银微粒电子过程的影响,进行了下列实验: 在涂布前往卤化银乳剂中加入少量金属离子(Hg~(2 )、Cu~(2 )、Pb~(2 )、Ni~(2 )、Co~(2 )、Cd~(2 )、Fe~(2 )、Zn~(2 )、Ba~(2 )、Sr~(2 )、Mn~(2 )),测定所引起的照相性能变化,观察在液氮温度下含有不同金属离子的卤化银乳剂发射强度的变化。所加入的金属离子量很少不足以影响卤化银微粒的结晶状态大小及离子化过
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