| 溅射气压对TiO2薄膜结构性质的影响 |
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| 引用本文： | 陈志华,王凤翔,宋红莲,张秀全,孙舒宁. 溅射气压对TiO2薄膜结构性质的影响[J]. 山东建筑大学学报, 2012, 27(6) |
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| 作者姓名： | 陈志华 王凤翔 宋红莲 张秀全 孙舒宁 |
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| 作者单位： | 山东建筑大学理学院,山东济南,250101 |
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| 基金项目： | 山东省自然科学基金项目，济南市科技局高校院所自主创新计划 |
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| 摘 要： | 用射频磁控溅射技术在双面抛光的石英玻璃(SiO2)基底上沉积Er3+/Yb3+掺杂的TiO2薄膜,利用RBS背散射分析技术和X射线衍射技术研究溅射压强对薄膜结构性质的影响.结果表明:随着压强增加,成膜速率缓慢下降,且压强增大到一定数值之后对成膜速率的影响会逐渐减弱;随着压强增加,薄膜晶粒变大,晶粒间界变小,晶化质量提高.当溅射压强2.0Pa时,晶粒尺寸最大为64nm;适当降低溅射压强有利于提高薄膜的沉积速率,但是压强值也不能过小,否则会影响薄膜的晶粒尺寸大小,降低薄膜的结晶质量.
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| 关 键 词： | TiO2薄膜 磁控溅射 溅射压强 沉积速率 晶粒尺寸 |
Influence of sputtering pressure on structural properties of TiO2 films |
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