极板间距对反应溅射GexG1—x薄膜的影响 |
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引用本文: | 宋建全,刘正堂.极板间距对反应溅射GexG1—x薄膜的影响[J].西北工业大学学报,1998,16(4):637-640. |
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作者姓名: | 宋建全 刘正堂 |
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作者单位: | 西北工业大学 |
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摘 要: | 利用射频磁控反应溅射法,以Ar,CH4为原料气体,在较宽的工艺参数范围内制备出了GexC1-x薄膜,研究了极板间距对沉积的影响。结果表明,随极板间距的减小,沉积速率增大,薄膜的均匀性变差,薄膜中Ge/C的原子比增加。
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关 键 词: | 薄膜 反应溅射法 极板间距 碳化锗 半导体 |
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