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分类号
杂志ISSN号
新型受阻胺光稳定剂及其合成方法探究
作者姓名:
尹奇伟
作者单位:
绍兴瑞康生物科技有限公司
摘 要:
高分子材料长时间暴露在日光下会出现机械性能降低、材料制品变黄等一系列变化,通常需要添加光稳定剂来对此现象进行缓解。传统的光稳定剂因对紫外线吸收剂基本没有吸收作用,不能单独使用,需要配合紫外线吸收剂使用。
关 键 词:
HALS
光稳定剂
合成制备
黄变效应
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