首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

新型受阻胺光稳定剂及其合成方法探究
作者姓名:尹奇伟
作者单位:绍兴瑞康生物科技有限公司
摘    要:高分子材料长时间暴露在日光下会出现机械性能降低、材料制品变黄等一系列变化,通常需要添加光稳定剂来对此现象进行缓解。传统的光稳定剂因对紫外线吸收剂基本没有吸收作用,不能单独使用,需要配合紫外线吸收剂使用。

关 键 词:HALS  光稳定剂  合成制备  黄变效应
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号