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| 冷等离子体对硅粉薄层的提纯研究 | |
| 引用本文： | 冯信华 何笑明. 冷等离子体对硅粉薄层的提纯研究[J]. 半导体技术, 1998, 23(4): 44-47 |
| 作者姓名： | 冯信华 何笑明 |
| 作者单位： | 华中理工大学能源学院 |
| 摘 要： | 给出了冷等离子体对作为阴极的硅粉薄层的提纯方法及装置、提纯结果和规律。实现表明，在氮化氢气氛下，不仅可以除去９５％以上的许多过渡金属复杂，还可以除去许多非金属杂质，这种提纯硅的研制太阳能电池材料方面具有发的应用前景。 |
| 关 键 词： | 冷等离子体 纯化效应 硅材料 硅粉 |
Study on Purity of Si Thin Layers Treated by Cold Plasma |
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| Abstract: | |
| Keywords: | Cold plasma Purity effects Low cost Si material |
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