|
|||||
|
|
| 紫外压印长波红外亚波长结构的涂胶工艺研究 | |
| 引用本文： | 王志俊,李阳平,周潇逸,李俊,刘正堂.紫外压印长波红外亚波长结构的涂胶工艺研究[J].光学精密工程,2014,22(8):2180. |
| 作者姓名： | 王志俊 李阳平 周潇逸 李俊 刘正堂 |
| 作者单位： | 王志俊:凝固技术国家重点实验室，西北工业大学材料学院，陕西 西安 710072 李阳平:凝固技术国家重点实验室，西北工业大学材料学院，陕西 西安 710072 周潇逸:凝固技术国家重点实验室，西北工业大学材料学院，陕西 西安 710072 李俊:凝固技术国家重点实验室，西北工业大学材料学院，陕西 西安 710072 刘正堂:凝固技术国家重点实验室，西北工业大学材料学院，陕西 西安 710072 |
| 基金项目： | 陕西省自然科学基础研究计划资助项目(No.2013JM8033);凝固技术国家重点实验室自主研究课题资助项目(No.110-QP-2014) |
| 摘 要： | 采用旋涂法进行了Si表面紫外固化胶涂布研究,并压印出了长波红外亚波长结构图形。用激光共聚焦显微镜观察了旋转涂布胶层的表面形貌,测量了表面粗糙度(Ra);用椭圆偏振仪测试了胶层厚度,扫描电子显微镜观察了压印图形的表面形貌,并用扫描探针显微镜测量了压印图形的结构高度。结果显示:当匀胶转速较小(如300r/min)时,胶层中不会产生气泡及针孔等缺陷,胶层的Ra小,但胶层均匀性差;提高转速可以改善胶层均匀性,但同时胶层中会产生大量气泡和针孔等缺陷,且它们不会随匀胶时间的延长而消除。文中提出用四转速匀胶法来同时解决胶层均匀性和膜层气泡等问题,获得的胶层无气泡,Ra为317nm时与Si衬底表面相当(324nm),均匀性(最小厚度值与最大厚度值之比)为89.17%,胶层平均厚度为626nm。结果表明:四转速涂胶法获得的胶层满足紫外压印长波红外亚波长结构的要求,压印的图形均匀、完整、保真性好。 |
| 关 键 词： | 紫外压印 亚波长结构 涂胶 表面粗糙度 气泡 针孔 |
| 收稿时间： | 2013/11/1 |
Spin coating of UV-curable resist for imprinting long-wave infrared subwavelength structures |
|
| Abstract: | |
| Keywords: | UV-imprinting lithography subwavelength structure spin coating surface roughness bubble pinhole |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |