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| X射线干涉光刻光束线偏转镜系统的设计与测试 | |
| 引用本文： | 龚学鹏,卢启鹏,彭忠琦.X射线干涉光刻光束线偏转镜系统的设计与测试[J].光学精密工程,2014,22(8):2142. |
| 作者姓名： | 龚学鹏 卢启鹏 彭忠琦 |
| 作者单位： | 龚学鹏:中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 应用光学国家重点实验室，吉林 长春 130033 卢启鹏:中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 应用光学国家重点实验室，吉林 长春 130033 彭忠琦:中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 应用光学国家重点实验室，吉林 长春 130033 |
| 基金项目： | 国家重大科学工程资助项目;上海光源工程资助项目(No.SS-06);国家自然科学基金资助项目(No.11079035) |
| 摘 要： | 介绍了上海光源X射线干涉光刻(XIL)光束线的基本情况。为实现光束线的光束偏转和光路切换,完成了其偏转镜系统的研制。分析了偏转镜系统的功能,设计了偏转镜的调节机构、切换机构和冷却结构。论述了调节机构的关键运动,即镜箱外直线运动转化为超高真空内旋转运动的实现过程;讨论了切换机构重复精度与承载能力之间的关系,并完成了精密丝杆的校核。采用镜子支撑方式和冷却方式集成的方案设计了冷却结构,并通过数值模拟分析了冷却结构和冷却效果。模拟结果表明镜子子午面形误差和弧矢面形误差分别约为6.5rad和7rad。应用激光干涉仪和光电自准直仪对调节机构和切换机构进行了测试,结果表明:调节机构的线性分辨力可达0.2μm,切换机构的重复精度满足设计要求。 |
| 关 键 词： | 上海同步辐射光源 X射线干涉光刻 偏转镜 结构设计 精度测试 |
| 收稿时间： | 2013/11/12 |
Design and testing of deflecting mirror system of X-ray interference lithography beamline |
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| Abstract: | |
| Keywords: | Shanghai Synchrotron Radiation Facility X-ray interference lithography deflecting mirror structure design precision testing |
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