| 磁控溅射W_(1-x)Ti_xN薄膜的结构与摩擦学性能研究 |
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| 引用本文： | 李学超,李长生,莫超超,丁建,朱秉莹. 磁控溅射W_(1-x)Ti_xN薄膜的结构与摩擦学性能研究[J]. 真空科学与技术学报, 2010, 30(3). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.03.07 |
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| 作者姓名： | 李学超 李长生 莫超超 丁建 朱秉莹 |
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| 作者单位： | 江苏大学材料学院摩擦学重点实验室,镇江,212013 |
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| 摘 要： | 采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的W1-xTixN薄膜。用X射线衍射仪,扫描电子显微镜,能量散色谱等检测手段对薄膜的表面状态,化学成分以及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦磨损试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对不同成分WTiN薄膜的摩擦学性能进行了评价。试验结果表明:薄膜的化学成分伴随着位置的改变在W0.80Ti0.20N和W0.18Ti0.82N的范围内发生变化;在经历了800℃,1 h的退火以后不同位置制备的薄膜先后出现了TiN,TiN0.6O0.4,W2N,W等多种物相结构;随着Ti含量的增加,薄膜的纳米硬度最高可达29.8 GPa,弹性模量最高可达277.5 GPa。一系列摩擦数据显示x=0.52的薄膜在所制备的WTiN薄膜体系中拥有最佳的摩擦学性能。
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| 关 键 词： | W-Ti-N薄膜 反应磁控溅射 基体位置 摩擦磨损性能 |
Microstructures and Tribological Property of W1-xTixN Deposited by Double-Target Co-Sputtering |
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| Li Xuechao,Li Changsheng,Mo Chaochao,Ding Jian,Zhu Bingying. Microstructures and Tribological Property of W1-xTixN Deposited by Double-Target Co-Sputtering[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2010, 30(3). DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.03.07 |
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| Authors: | Li Xuechao Li Changsheng Mo Chaochao Ding Jian Zhu Bingying |
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