| 溶液温度和衬底对电化学沉积Cu2O薄膜形貌的影响 |
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| 引用本文： | 陈志钢,唐一文,张丽莎,张新,贾志勇,余颖. 溶液温度和衬底对电化学沉积Cu2O薄膜形貌的影响[J]. 材料科学与工程学报, 2005, 23(4): 570-573 |
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| 作者姓名： | 陈志钢 唐一文 张丽莎 张新 贾志勇 余颖 |
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| 作者单位： | 华中师范大学纳米科技研究院,湖北,武汉,430079;华中师范大学纳米科技研究院,湖北,武汉,430079;华中师范大学纳米科技研究院,湖北,武汉,430079;华中师范大学纳米科技研究院,湖北,武汉,430079;华中师范大学纳米科技研究院,湖北,武汉,430079;华中师范大学纳米科技研究院,湖北,武汉,430079 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 , 湖北省武汉市科技攻关项目 |
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| 摘 要： | 以透明导电玻璃(TCO)、纳米TiO2/TCO、CNTs/TCO、铜片分别为工作电极,用简单铜盐通过阴极还原制备了Gu2O薄膜,并研究了溶液温度和衬底对电化学沉积Gu2O薄膜形貌的影响.结果表明:以TCO和铜片为衬底时,由于表面微粒为微米级,不管溶液温度高低,只能得到微米级的Cu2O薄膜;以纳米TiO2/TCO和CNTs/TCO为衬底,池温高于30℃只能得到微米级的Cu2O薄膜,而池温降到0℃时,都可得到纳米Cu2O.
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| 关 键 词： | 氧化亚铜 电沉积 溶液温度 衬底 |
| 文章编号： | 1004-793X(2005)04-0570-04 |
| 修稿时间： | 2004-10-07 |
Effects of Bath Temperature and Substrate on Surface Morphology of Electrodeposited Cu2O Thin Films |
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| CHEN Zhi-gang,TANG Yi-Wen,ZHANG Li-Sha,ZHANG Xin,JIA Zhi-yong,YU Ying. Effects of Bath Temperature and Substrate on Surface Morphology of Electrodeposited Cu2O Thin Films[J]. Journal of Materials Science and Engineering, 2005, 23(4): 570-573 |
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| Authors: | CHEN Zhi-gang TANG Yi-Wen ZHANG Li-Sha ZHANG Xin JIA Zhi-yong YU Ying |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | cuprous oxide electrodeposition bath temperature substrate |
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