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纳米光刻技术
摘 要:
著名的四大计算机芯片制造商将与纽约州合作,在今后5年内出资5亿美元,联合开发下一代计算机芯片光刻技术,研究线宽只有人头发丝10万分之一的集成电路。IBM、超微(AMD)、美光(Mi鄄cron)及德国英飞凌四家公司与纽约州日前宣布了这一计划。纽约州计划出资1.8亿美元,上述四家公司各出5000万美元,另外几家提供原料和设备的公司出资2亿美元。
关 键 词:
纳米光刻技术
计算机芯片
纽约州
联合开发
集成电路
美元
制造商
IBM
公司
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