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| 在辉光放电中γ-氨丙基三乙氧基硅烷的聚合及其聚合物的结构和性能 | |
| 引用本文： | 王世才,周茂堂,陈捷,郭作军.在辉光放电中γ-氨丙基三乙氧基硅烷的聚合及其聚合物的结构和性能[J].辐射研究与辐射工艺学报,1992(2). |
| 作者姓名： | 王世才 周茂堂 陈捷 郭作军 |
| 作者单位： | 中国科学院长春应用化学研究所 长春 (王世才，周茂堂，陈捷)，长春气象仪器研究所 长春(郭作军) |
| 摘 要： | 在外部电容耦合装置中进行了γ-氨丙基三乙氧基硅烷(APTEOS)的聚合,研究了系统的压力、放电功率、基片距离和等离子气体对聚合膜淀积速率以及对聚合物的结构与性能的影响。应用元素分析、红外光谱、X射线衍射研究了聚合物的结构,并测定了热失重、接触角和表面能。 |
| 关 键 词： | 等离子体聚合 γ-氨丙基三乙氧基硅烷 表面能 |
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