GaAs MESFET低频噪声机理的研究 |
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引用本文: | 安姽,顾世惠,包其伦.GaAs MESFET低频噪声机理的研究[J].固体电子学研究与进展,1988(2). |
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作者姓名: | 安姽 顾世惠 包其伦 |
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作者单位: | 南京电子器件研究所
(安姽,顾世惠),南京电子器件研究所(包其伦) |
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摘 要: | <正> GaAs MESFET器件的低频噪声是该器件一项重要的电特性,研究它的产生机理对器件微波非线性和从直流到微波超宽带等方面的应用,以及了解器件内部深能级均非常重要。 GaAs MESFET低频噪声研究在国内尚未见到有关文献报道。在建立了GaAs MESFET低频噪声测量系统的基础上,作者对南京电子器件研究所研制生产的各种GaAs MESFET样管及HEMT器件进行了测量。这些器件的低频噪声具有以下特点:(1)器件低频噪声同器件的偏置状态和几何参数有关,其等效输入噪声电压随源—漏电流和栅偏电压绝对值的增加而增大,但随栅长和栅宽的增加而减小。并发现功率器件噪声较低。(2)GaAs MESFET低频噪声比Si器件大。(3)一般器件的低频噪声谱呈1/f~μ关系,其中α=11;而GaAs MESFET的α在0.5~2之间。(4)HEMT器件的低频噪声同GaAs器件相比稍大。
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